CVD（化学气相沉积）的原理及应用

            CVD气相沉积炉装置由反应物供应系统、气相反应器以及气流传送系统所组成。反应物多为金属氯化物，先被加热到一定温度，达到足够高的蒸汽压，用载气送入反应器。如果某种金属不能形成高压氯化物蒸汽，就代之以有机金属化合物。在反应器内，被涂材料或用金属丝悬挂，或放在平面上，或沉没在粉末的流化床中，或本身就是流化床中的颗粒。在气相化学反应器中发生，产物就会沉积到被涂物表面，废气被导向碱性吸收或冷阱。

      沉积反应可认为还原反应、热解反应和取代反应几类。CVD气相沉积炉反应可分为冷壁反应与热壁反应。在热壁反应中，化学反应的发生与被涂物同处一室。被涂物表面和反应室的内壁都涂上一层薄膜。在热壁反应器中只加热被涂物，反应物另行导入。